ഇലക്ട്രോണിക് മിശ്രിതം

വലിയ തോതിലുള്ള ഇൻ്റഗ്രേറ്റഡ് സർക്യൂട്ടുകളിലും (LSI), അൾട്രാ ലാർജ് സ്കെയിൽ ഇൻ്റഗ്രേറ്റഡ് സർക്യൂട്ടുകളിലും (VLSI), അർദ്ധചാലക ഉപകരണ ഉൽപ്പാദനത്തിലും ഇലക്ട്രോണിക് മിശ്രിത വാതകങ്ങൾ വ്യാപകമായി ഉപയോഗിക്കുന്നു. ഗ്യാസ് ഫേസ് എപ്പിറ്റാക്സി (ഉത്പാദനം), കെമിക്കൽ നീരാവി നിക്ഷേപം, ഡോപ്പിംഗ് (അശുദ്ധി വ്യാപനം), വിവിധ എച്ചിംഗ്, അയോൺ ഇംപ്ലാൻ്റേഷൻ പ്രക്രിയകളിൽ അവ പ്രധാനമായും ഉപയോഗിക്കുന്നു.

ഇലക്ട്രോണിക് മിക്സഡ് ഗ്യാസ് സംഗ്രഹമില്ല

1. Dichlorosilane (DCS) 5000ppm+N2; ഡിക്ലോറോസിലേൻ (DCS) 15ppm+N2

2 ഡൈക്ലോറോസിലേൻ (DCS) 10ppm+ട്രൈക്ലോറോസിലേൻ (TCS) 10ppm+ഹീലിയം

3 HCI 50ppm+dichlorosilane (DCS) 1000ppm+സന്തുലിതാവസ്ഥ He

4 സിലാൻ 1%+ഡിക്ലോറോസിലേൻ (ഡിസിഎസ്) 1%+ട്രൈക്ലോറോസിലേൻ (ടിസിഎസ്) 1%+ടെട്രാക്ലോറോസിലേൻ 1%+നൈട്രജൻ

5 സിലാൻ 50 പിപിഎം+ട്രൈക്ലോറോസിലെയ്ൻ (ടിസിഎസ്) 1000 പിപിഎം+ഹി

6 ട്രൈക്ലോറോസിലേൻ (TCS) 15ppm+N2

7 എഥിൽസിലാൻ (Si2H4) 100ppm~200ppm+H2

8 Ethylsilane 10ppm+He

9 CO2 5ppm+silane 135ppm+ethylsilane 1000ppm+He

10 SiH4 5ppm~15%+Ar (H2/N2/He)

11 H2 5ppm+Ar 5ppm+N2 5ppm+CO 5ppm+CH4 5ppm+Equilibrium He of CO2 5ppm+silane 1000ppm

12 Ethylborane 50-100ppm+H2

13 ആഴ്സനേൻ 100ppm~0.7%+H2

14 ജർമ്മൻ 1%~10%+H2

15 ബോറോൺ ട്രൈക്ലോറൈഡ് 1%~5%+N2 (അവൻ)

16 PH3 0.8ppm~500ppm+He (H2)

17 HCI 9ppm~50%+N2

18 NF3 99.99% 180g~1500g

19 NF3 20ppm~30ppm+എയർ

20 NF3 15ppm+N2

21 CF4 80%+O2

22 Ar 5ppm~80%+Ne (H2/He/N2)

DKK 23 8%~50%+Yr

24 No 80%~97%+Ar